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紫外分光片（S2面增透膜AR 700-1100nm） 楔形分光片的楔角以及背面的增透膜可将后表面反射的鬼像干扰减小。高精度基片确保反射及透射光波前精度。我们提供提供多种分束比的楔形分光片，增透膜包括UV、VIS、 NIR。

平面全息光栅通常用于对杂散光敏感的应用中。其基底镀有光敏材料，将有光敏材料涂层的基板置于由激光器产生的单色光和相干光束组成的相交光束之间，使光敏材料感光。相交激光束产生一系列平行且等距的干涉条纹，条纹强度按照正弦曲线形状变化。由于光敏材料的溶解度由对其照射的光强决定，干涉条纹显示了光敏材料表面不同光强。然后可以对基底镀反射膜然后用与复制刻划的原始光栅相同的过程用于复制。

透射式光栅光路设计简单，对于使用固定式光栅的应用，透射光栅优势明显，比如光谱仪。入射光束在光栅背面以固定角度发生色散。透射式光栅对一些类型的光栅准直误差不敏感。为了获得高衍射效率，透射式光栅刻线密度不高。衍射角会随刻线密度的增加而增大，基底材料的折射率限制了长波的透射率，从而导致性能降低。光栅的色散特性使其适用于使用小型探测器阵列的紧凑系统。这种光栅对于偏振也不敏感。

透射光栅分光片通常用于贬别-狈别激光束的分光和可见范围内多条激光的分离。透射的光束被衍射为多阶。由在抛光玻璃基底上镀的与之折射率相匹配的环氧树脂复制层所构成，以此获得更高的总衍射效率。这些分束器专门设计用于贬别-狈别激光器分光。

平面刻线衍射光栅（12.7虫12.7虫6尘尘） 制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择，通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整，可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回，并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。

平面刻线衍射光栅（25虫25虫6尘尘） 制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择，通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整，可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回，并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。

平面刻线衍射光栅（50虫50虫9.5尘尘） 制作原始或者母光栅的初始步骤是对基底材料的选择，通常为玻璃或者铜。将基底材料抛光至高平整度并对其镀一层很薄的铝膜。刻划平行度和刻线的等距需要漫长的时间进行调整，可能需要花费几天进行设置并在实际刻划之前进行测试。刻划机必须能够在每次刻划后让钻石刀头按精路线折回，并按预定量对基底进行刻划。刻线的平行度和位移必须精控制。

立方分光棱镜（宽带增透400词700苍尘）与分光片相比，分光棱镜的反射及透射光光程是相等的。在透光时，分光棱镜没有光线偏移造成的影响，所以不会存在光束平移，鬼像以及干涉的困扰。用于分光及成像。45°角入射时无需长时间校准。